光罩作为半导体质料光刻工艺的模具，在实际使用历程中，可能因为放置的时间太久，或者使用不妥造成破损、沾污等，面临需要清洗、重新检验、重新贴光学膜、修补缺陷等情形。 公司生存了所有光罩产物的出厂信息，可追溯其生产信息、品质信息，在客户使用历程中如泛起异常，公司可以快速识别并提供完善的解决方案，以保障下游客户生产需要。公司的售后服务可笼罩ASML，NIKON，CANNON等主流光刻机类型。