公司提供Mask Design Rule Check服务，客户可通过MRC对数据进行规则检查，MRC与芯片设计公司所使用DRC类似，可针对细微区域侦测异常设 计，防止流片历程中异常情形的发生；此外，公司还可提供Format Transferring, Floor Plan, Bias, Mirror, Scaling, Reticle Alignment Mark, Barcode等数据处置惩罚服务。

公司提供Job Deck View服务，客户可通过在线JDV方式对设计文件进行最终确认，公司可以支持的文件花样包罗MEBES、GDSII、OASIS、DXF、DWG、CIF、TDB、DPF等。

公司提供光罩清洗服务（Mask Cleaning Services），客户可以通过光罩清洗服务清洗光罩外貌的颗粒，并重新对产物进行重新检测和丈量，以确认产物是否可继续使用。

公司提供重贴膜服务（Pellicle Remount Services），客户可通过重贴膜服务，将划伤、破损、撕裂、沾污的光学膜去除，经过清洗、检测后再重新贴膜。